產(chǎn)品
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- iXH系列半導體真空泵
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- EPX系列半導體真空干泵
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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
STPA803C 愛德華磁懸浮渦輪分子泵
STPA803C 愛德華磁懸浮渦輪分子泵
詳情介紹：
概述
Edwards STPA803C 渦輪分子泵是為半導體應用而設計的。Edwards 的轉(zhuǎn)子可實現(xiàn)的性能和大的制程靈活性。STPA803C 已經(jīng)由半導體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設備制造商投入使用，并得到了。
應用
金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
的轉(zhuǎn)子
大的制程靈活性
無油
低振動
高度
免維護
可用于嚴苛制程
使用壽命延長
的控制器設計
自動調(diào)整
自行診斷功能
直流電機驅(qū)動
無電池運行
緊湊型設計
占地面積小
半機架控制器
Edwards STPA803C 渦輪分子泵是為半導體應用而設計的。Edwards 的轉(zhuǎn)子可實現(xiàn)的性能和大的制程靈活性。STPA803C 已經(jīng)由半導體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設備制造商投入使用，并得到了。
應用
金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
的轉(zhuǎn)子
大的制程靈活性
無油
低振動
高度
免維護
可用于嚴苛制程
使用壽命延長
的控制器設計
自動調(diào)整
自行診斷功能
直流電機驅(qū)動
無電池運行
緊湊型設計
占地面積小
半機架控制器
技術データ
| 入口法蘭 | ISO160F |
| KF40 | |
| 吹掃口 | KF10 |
| 水冷卻接頭 | PT1/4 |
| 抽速 |
|
| N2 | 800 ls-1 |
| H2 | 520 ls-1 |
| 壓縮比 |
|
| N2 | >108 |
| H2 | 103 |
| 加熱時的極限壓力 | 10-7 Pa (10-9 Torr) |
| 大連續(xù)壓力 | 270 Pa (2 Torr) |
| 大氮氣吞吐量 | 1500 sccm |
| 額定速度 | 32500 rpm |
| 啟動時間 | 7 分鐘 |
| 高入口法蘭溫度 | 120 °C |
| 輸入電壓 | 200 至 240 (± 10) V 交流 |
| 功耗 | 0.85 kVA |
| 泵重量 | 39 kg |
| 控制器重量 | 9 kg |
