產(chǎn)品
- RV系列雙級(jí)旋片泵
- E2M系列雙級(jí)旋片泵
- nES系列單級(jí)旋片泵
- ES系列單級(jí)旋片泵
- nXDS系列干式渦旋泵
- nXLi系列干式真空泵
- EDC系列爪式真空泵
- EOSi系列噴油螺桿泵
- EH系列羅茨真空泵
- EDS系列干式螺桿泵
- GXS系列干式螺桿泵
- GV系列爪式真空泵
- T-Station渦輪分子泵小車
- STP系列渦輪分子泵
- Stokes滑閥泵
- Stokes 6羅茨泵
- D-LAB系列隔膜真空泵
- nEXPT系列分子泵站
- nEXT系列渦輪分子泵
- EDP系列化工爪式干泵
- CXS系列化工螺桿真空泵
- CDX系列化工螺桿真空泵
- HT系列油蒸汽擴(kuò)散泵
- iH系列半導(dǎo)體真空干泵
- iXH系列半導(dǎo)體真空泵
- iXL系列半導(dǎo)體真空干泵
- EPX系列半導(dǎo)體真空干泵
- GX系列半導(dǎo)體干式泵
產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
STP-XA2703C VG250 愛德華真空磁懸浮渦輪分子泵為高真空到 2300 sccm 制程流的制程范圍內(nèi)提供高性能，并提高氣體的吞吐量。
STP-XA2703C VG250 愛德華真空磁懸浮渦輪分子泵此泵基于新的平臺(tái)設(shè)計(jì)，提供功能以改善熱管理，從而增強(qiáng)在嚴(yán)苛制程中的性能，提高大制程流能力，并減少腐蝕和沉積的影響。
詳情介紹：
概述
STP-XA2703C 渦輪泵為高真空到 2300 sccm 制程流的制程范圍內(nèi)提供高性能，并提高氣體的吞吐量。
此泵基于新的平臺(tái)設(shè)計(jì)，提供功能以改善熱管理，從而增強(qiáng)在嚴(yán)苛制程中的性能，提高大制程流能力，并減少腐蝕和沉積的影響。
其出色的性能既適用于溫和的應(yīng)用環(huán)境，也適用于嚴(yán)苛的環(huán)境，例如半導(dǎo)體刻蝕、注入、光刻和 LCD 制程。
應(yīng)用
金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點(diǎn)站
MBE
擴(kuò)散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長(zhǎng)
晶片檢查
負(fù)載鎖真空腔
科學(xué)儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
STP-XA2703C 渦輪泵為高真空到 2300 sccm 制程流的制程范圍內(nèi)提供高性能，并提高氣體的吞吐量。
此泵基于新的平臺(tái)設(shè)計(jì)，提供功能以改善熱管理，從而增強(qiáng)在嚴(yán)苛制程中的性能，提高大制程流能力，并減少腐蝕和沉積的影響。
其出色的性能既適用于溫和的應(yīng)用環(huán)境，也適用于嚴(yán)苛的環(huán)境，例如半導(dǎo)體刻蝕、注入、光刻和 LCD 制程。
應(yīng)用
金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點(diǎn)站
MBE
擴(kuò)散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長(zhǎng)
晶片檢查
負(fù)載鎖真空腔
科學(xué)儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應(yīng)用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢(shì)
的轉(zhuǎn)子設(shè)計(jì)
增強(qiáng)的 H2、N2 和 Ar 性能
改進(jìn)了在高真空到 2300 sccm 制程壓力范圍內(nèi)的性能
免維護(hù)
5 軸磁懸浮系統(tǒng)
無污染
低振動(dòng)
性轉(zhuǎn)矩管理
獲得的轉(zhuǎn)矩減少機(jī)械裝置
優(yōu)化的溫度管理系統(tǒng)
高溫 TMS 能力
低沉積
內(nèi)置冷卻機(jī)械裝置
更高的氣體吞吐量（加熱和未加熱）
延長(zhǎng)壽命
可用于嚴(yán)苛制程
符合 SEMI®，具有 CE 標(biāo)記，列于 UL 中
數(shù)據(jù)
| 入口法蘭 | VG250 |
| 抽速 |
|
| N2 | 2650 ls-1 |
| H2 | 2050 ls-1 |
| 壓縮比 |
|
| N2 | >108 |
| H2 | >6 x 103 |
| 極限壓力 | 10-7 Pa |
| 大允許前級(jí)壓力 | 266 Pa |
| 大允許氣體流量 |
|
| N2（水冷卻） | 2300 sccm |
|
|
(3.8 Pam3s-1) |
| Ar（水冷卻） | 1900 sccm |
|
|
(3.2 Pam3s-1) |
| 額定速度 | 27500 rpm |
| 啟動(dòng)時(shí)間 | 8 min |
| 固定位置 | 任何方向 |
| 水冷卻流量 | 3 lmin-1 |
| 水冷卻溫度 | 5-25 °C (41-77 °F) |
| 壓力 | 0.3 MPa |
| 的吹掃氣體流量 | 50 sccm (8.4 x 10-2 Pam3s-1) |
| 輸入電壓 | 200 至 240 V 交流(± 10) |
| 功耗 | 1.5 kVA |
| 泵重量 | 75 kg (165 lb) |
| 控制器重量 | 12 kg (26.4 lb) |
