眾所周知，Edwards在設計、和制造處于地位，其豐富的應用經(jīng)驗，為用戶提供佳整體解決方案。在半導體，Edwards 緊隨行業(yè)發(fā)展勢頭，牢牢抓住發(fā)展機遇，如今我們半導體真空泵產(chǎn)品更是占據(jù)了半導體真空泵的半壁江山，霸主地位不容忽視。毫不夸張的說，在半導體制造中，我們Edwards的產(chǎn)品必不可少！今天小編就為大家介紹半導體制造環(huán)節(jié)中必不可少的 iXM 系列干泵。

新產(chǎn)品Edwards iXM系列干泵致力于蝕刻和化學氣相沉積工藝，為用戶降低能耗?？赡芎芏嗖皇煜ぐ雽w生產(chǎn)工藝的朋友對此不太了解。其實蝕刻和化學氣相沉積工藝是半導體制造環(huán)節(jié)不可缺少的步驟。

蝕刻的基本原理是利用化學感光材料的光敏特性, 在基體金屬基片兩面均勻涂敷感光材料采用光刻方法, 將膠膜板上柵網(wǎng)產(chǎn)顯形狀地復制到金屬基片兩面的感光層掩膜上通過顯影去除未感光部分的掩膜, 將裸露的金屬部分在后續(xù)的加工中與腐蝕液直接噴壓接觸而被蝕除, 終獲取所需的幾何形狀及度尺寸的產(chǎn)品蝕刻。而化學氣相沉積(CVD)是半導體工業(yè)中應用為的用來沉積多種材料的，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說，它是很簡單的：兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導入到一個反應室內(nèi)，然后他們相互之間發(fā)生化學反應，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上。沉積氮化硅膜(Si3N4)就是一個很好的例子，它是由硅烷和氮反應形成的。

• 真空界的新產(chǎn)品Edwards iXM系列是低能耗干泵，在關鍵半導體工藝上幫助用戶提高制程穩(wěn)定性并降低整體能耗。

  
  

• iXM為環(huán)保量身定制；高效的多級羅茨轉(zhuǎn)子設計地使能耗降低至1.4kw，與前幾代干泵相比降低了60%，減少了對環(huán)境的影響以及降低了用戶使用成本。

  
  

• 氮氣氣簾和改進的散熱設計使得其耐腐蝕性比iH系列產(chǎn)品高出四倍。的粉末處理功能意味著iXM將提供大的性，延長多層蝕刻和化學氣相沉積工藝中泵的使用年限，降低用戶能耗。

• 結(jié)構(gòu)緊湊，設計輕巧，極低的噪音和振動聲，使iXM成為Edwards眾多產(chǎn)品中使用范圍廣的干泵。iXM將顛覆您對真空干泵的期望，為您帶來真正的效益，大程度減少對環(huán)境的影響，提高設備稼動率。

• 低功率輸入僅1.4千瓦

• 比前一代干泵功率減少60%

• 節(jié)能模式幫助用戶節(jié)省用電和氮氣等運行成本

  
  

• 4倍于前代產(chǎn)品的抗腐蝕能力

• 的粉塵處理能力

  
  

• 靜音運行

• 體積輕巧

低能耗泵iXM系列，專為蝕刻和化學氣相沉積流程而設計。它功率強，體積小，低噪音低。它具有高效電機和低損耗設計可提供極低的能耗，改進的氮氣吹掃設計以及更加寬的溫度設定范圍延長泵在腐蝕環(huán)境下的使用壽命。獨有的轉(zhuǎn)子設計和更高的馬達扭矩帶來的粉塵處理能力，這些都成就了iXM系列在半導體真空泵界霸主地位。目前iXM 有型號：iXM200，iXM600，iXM1200 以及iXM1800。iXM就是未來，未來就是現(xiàn)在！后小編就為您奉上視頻，帶您一堵iXM的芳容。若對iXM 系列低能耗干泵感興趣或有任何問題，歡迎聯(lián)系我們。