產(chǎn)品
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- iH系列半導體真空干泵
- iXH系列半導體真空泵
- iXL系列半導體真空干泵
- EPX系列半導體真空干泵
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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
STP603 ISO160F Edwards渦輪分子泵是的渦輪分子泵，可用于的半導體應用。
STP603 ISO160F Edwards渦輪分子泵是Edwards 的轉子可實現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。這種泵已經(jīng)由半導體和磁介質行業(yè)的大型設備制造商投入使用，并得到了。
詳情介紹：
概述
Edwards STP603 是的渦輪分子泵，可用于的半導體應用。Edwards 的轉子可實現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。這種泵已經(jīng)由半導體和磁介質行業(yè)的大型設備制造商投入使用，并得到了。
應用
金屬（鋁）、鎢和電介質（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學儀器：表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
的轉子
大的制程靈活性
無油
低振動
高度
免維護
的控制器設計
自動調整
自行診斷功能
直流電機驅動
無電池運行
緊湊型設計
占地面積小
Edwards STP603 是的渦輪分子泵，可用于的半導體應用。Edwards 的轉子可實現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。這種泵已經(jīng)由半導體和磁介質行業(yè)的大型設備制造商投入使用，并得到了。
應用
金屬（鋁）、鎢和電介質（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學儀器：表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
的轉子
大的制程靈活性
無油
低振動
高度
免維護
的控制器設計
自動調整
自行診斷功能
直流電機驅動
無電池運行
緊湊型設計
占地面積小
半機架控制器
數(shù)據(jù)
| 入口法蘭 | ISO160F |
| KF40 | |
| 抽速 |
|
| N2 | 650 ls-1 |
| H2 | 550 ls-1 |
| 壓縮比 |
|
| N2 | >108 |
| H2 | >105 |
| 加熱時的極限壓力（VG/ISO 法蘭） | 6.5 x 10-6 Pa |
|
|
(5 x 10-8 Torr) |
| 加熱時的極限壓力（ICF 法蘭） | 10-7 Pa |
|
|
(10-9 Torr) |
| 大連續(xù)壓力 | 13 Pa (0.1 Torr) |
| 額定速度 | 35000 rpm |
| 啟動時間 | 6 分鐘 |
| 高入口法蘭溫度 | 120 °C |
| 輸入電壓 | 100 至 120 (± 10) V 交流或 |
|
|
200 至 240 (± 10) V 交流 |
| 啟動時的功耗 | 0.8 kVA |
| 泵重量 | 31 kg |
| 控制器重量 | 9 kg |
